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UV清洗机-UV表面改质机

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UV清洗机

产品分类:UV表面改质机
适用范围:硅胶表带、PET膜、FPC、晶圆光学改质处理。
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产品介绍

一、工作原理:UV低压紫外汞灯能同时发射波长254nm185nm紫外光,这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键,使有机物分子活化,分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时,185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气O2)分解成臭氧(O3);而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2活性氧O),这个光敏氧化反应过程是连续进行的,在这两种短波紫外光的照射下,臭氧会不断的生成和分解,活性氧原子就会不断的生成,而且越来越多,由于活性氧原子(O)有强烈的氧化作用,与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应,生成挥发性气体(如CO2,CO,H2O,NO等)逸出物体表面,从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。

二、应用领域:光清洗的应用范围十分广泛,在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍,随着我国工业现的发展,光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。

1、在LCD、OLCD生产中,在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗,可以极大的提高基体表面润湿性,增强基体表面的粘合力;

2、印制电路板生产中,对铜底板,印刷底板进行光清洗和改质,在导线焊接前进行光清洗,可以提高熔焊的接触面积,大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板,当线距达到亚微米级时,光清洗可轻易地去除在线距间很小的微粒,可以大大提高印制电路板的质量。

3、大规模集成电路的密度越来越高,晶格的微细化越来越密,要求表面的洁净度越来越高,光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度,而且对芯片表面不会造成损伤。

4、在半导体生产中,硅晶片涂?;つ?、铝蒸发膜前进行光清洗,可以提高粘合力,防止针孔、裂缝的发生。

5、在光盘的生产中,沉积各种膜前作光清洗准备,可以提高光盘的质量。

6、磁头固定面的粘合,磁头涂敷,以及提高金属丝的连接强度,光清洗后效果更好。

7、石英晶体振荡器生产中,除去晶体检测后涂层上的墨迹,晶体在银蒸发沉积前,进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。

8、在IC表面插装ROM前,经过光清洗可提高产品质量。

9、彩色滤光片生产中,光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。

10、敷铜箔层压板生产中,经过光照改质,不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的?;ぱ趸?,产品质量显著提高。

11、光学玻璃经过紫外光清洗后,镀膜质量更好。

12、树脂透镜光照后,能加强与防反射板的粘贴性。

13、对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余的光刻胶、环氧树脂、焊剂,以及带有氧化膜的金属表面处理,去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物,光清洗是十分有效的方法。

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